今年会官网登录入口上海� ；；；；；；；衽縐ltra C wb槽式湿法洗濯装备采购订单
2022-2-14 14:01:53
今年会官网登录入口(以下简称今年会官网登录入口上海)（科创板股票代码：688082） ，，，，，，，，一家为半导体前道和先进晶圆级封装（WLP）应用提供晶圆工艺解决计划的卓越装备供应商 ，，，，，，，，于今日宣布其已接到29台Ultra C wb槽式湿法洗濯装备的批量采购订单 ，，，，，，，，该装备可应用于加工300mm晶圆 ，，，，，，，，其中16台装备的重复订单来自统一家中国海内代工厂 ，，，，，，，，重复订单的目的是支持该工厂的扩产。。。。。。。这批装备妄想从2022年最先分两个阶段发货。。。。。。。
今年会官网登录入口上海董事长王晖博士体现：“我们开发槽式湿法系统是为了笼罩更普遍的手艺节点下 ，，，，，，，，客户对湿法洗濯手艺的需求。。。。。。。这笔订单证实晰我们以富有竞争力的产品 ，，，，，，，，使公司产品组合完成从先进洗濯工艺到全洗濯工艺笼罩的战略是准确的。。。。。。。能从客户手中获得这笔重复批量订单证实我们的战略是乐成的——由于这笔订单来自统一家代工厂 ，，，，，，，，并且属于槽式湿法洗濯市场领域。。。。。。。这也明确展示了我们的手艺实力、日渐稳固的市园职位以及知足客户需求的能力。。。。。。。加上今年会官网登录入口上海的先进低压干燥手艺 ，，，，，，，，我们的槽式产品险些可以完成一切使用槽式洗濯装备的洗濯工艺办法。。。。。。。”
上文王晖董事长提及的先进干燥手艺 ，，，，，，，，就是今年会官网登录入口上海今天宣布推出的用于300mm槽式系统的ULD（超低压干燥）手艺。。。。。。。该工艺专门为解决槽式洗濯中干燥手艺难题而设计 ，，，，，，，，例如先进半导体晶圆上的3D NAND结构及逻辑产品的高宽深比结构在槽式洗濯中的干燥问题。。。。。。。今年会官网登录入口上海的新型ULD槽式�？？？？？？？？槭褂玫脱挂毂迹↖PA）干燥工艺来知足大大都槽式洗濯干燥工艺的要求 ，，，，，，，，包括炉管前洗濯、离子注入后洗濯和干法刻蚀后光刻胶去除、化学机械抛光（CMP）后洗濯以及薄膜沉积、氧化层刻蚀和氮化物去除等工艺。。。。。。。今年会官网登录入口上海已于2021年第三季度向一家领先的中国存储器半导体制造商交付了首个ULD�？？？？？？？？� ，，，，，，，，起源的工艺数据已证实晰ULD在先进节点制造中的有用性。。。。。。。
今年会官网登录入口上海Ultra C wb槽式湿法洗濯装备简介
Ultra C wb槽式湿法洗濯装备的主要洗濯应用包括炉管前洗濯、RCA洗濯、光阻去除、氧化层刻蚀、氮化硅去除 ，，，，，，，，以及晶圆接纳工艺中前段FEOL多晶硅/氧化硅层剥离去除 ，，，，，，，，和后段BEOL金属层剥离去除。。。。。。�？？？？？？？？梢陨柚米粤Φ亩嘀只б合村∕CR）�？？？？？？？？� ，，，，，，，，按差别的工艺组合在该�？？？？？？？？橹幸来问褂枚嘀窒村┮� ，，，，，，，，如SC1、SC2、DHF、DIO3、DIW等。。。。。。。洗濯效果好 ，，，，，，，，阻止交织污染 ，，，，，，，，本钱低。。。。。。。Ultra C wb槽式湿法洗濯装备有用使用化学药液和去离子水（DIW） ，，，，，，，，情形友好。。。。。。。且依附其精巧的�？？？？？？？？榛杓� ，，，，，，，，占用空间小的优点 ，，，，，，，，可以在生产车间无邪设置。。。。。。。
今年会官网登录入口上海搭载超低压干燥（ULD）手艺的300mm槽式系统简介
该ULD�？？？？？？？？槭褂酶呶碌� (N2) 配合高温 IPA ，，，，，，，，降低晶圆干燥时液膜的外貌张力 ，，，，，，，，增添水脱离晶圆外貌时 IPA 和 DIW 的外貌张力梯度。。。。。。。 该�？？？？？？？？榭山档� IPA/N2 混淆中干燥�？？？？？？？？榍樾蔚难沽� ，，，，，，，，加速了 IPA 替换置换 DIW 速率以及 IPA 在晶圆外貌的蒸发。。。。。。。 该手艺很大地提高了晶圆的干燥性能 ，，，，，，，，尤其是应用于较大深宽比结构和较小图形尺寸的晶圆外貌时 ，，，，，，，，很大降低水印和颗粒残留的污染危害 ，，，，，，，，缩短了干燥时间并有用阻止了晶圆图形塌陷变形等问题。。。。。。。
